Ultrazvukový povlak tenkého filmu krystalu osiva karbidu křemíku pro mikroelektronické polovodiče

 

 

 

Ultrazvukové potahování mikrodigitálních polovodičových krystalů z karbidu křemíku s tenkým filmem je na vzestupu, který kombinuje pozoruhodné vlastnosti karbidu křemíku s přístupem k potahování šetrným k životnímu prostředí ultrazvukovým stříkáním.

Díky své nadměrné tvrdosti, nadměrné tepelné vodivosti a skvělé chemické stabilitě je karbid křemíku vhodný pro vysoko{0}}teplotní a{1}}výkonové aplikace. Mikrodigitální polovodičový polovodičový krystal z karbidu křemíku ultrazvukový povlak tenký film může získat elektrickou a tepelnou vodivost šetrnou k životnímu prostředí, vhodnou pro řadu digitálních a optoelektronických zařízení.

 

 

 

 

 

 

 

1. Elektronická zařízení: Ve výkonových elektronických zařízeních mohou tenké vrstvy karbidu křemíku zlepšit účinnost a tepelnou odolnost zařízení.
2. Optoelektronické komponenty: Ve fotovoltaických a LED zařízeních mohou tenké vrstvy karbidu křemíku zvýšit účinnost fotoelektrické konverze.
3. Povrchová vrstva odolná proti opotřebení: poskytuje mechanickou součást -odolnou proti opotřebení a korozi-.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Populární Tagy: ultrazvukové potahování tenkého filmu krystalického krystalu karbidu křemíku pro mikroelektronické polovodiče, Čína ultrazvukové potahování tenkého filmu krystalického krystalu karbidu křemíku pro výrobce, dodavatele, továrnu mikroelektronických polovodičů