Nanotechnologie Polovodičový proces Ultrazvuková fotorezistová stříkací technologie

 

 

 

Nanotechnologický polovodičový proces ultrazvukové technologie rozprašování fotorezistu generuje kapičky fotorezistu prostřednictvím vysokofrekvenčních{0}}mechanických vibrací média fotorezistu a poté je transportuje na substrát prostřednictvím nosného plynu.
Klíčovým požadavkem pro zajištění reprodukovatelných, spolehlivých a použitelných důsledků technologického know-how ve fotolitografii- je stejnoměrně pokrýt podlahu substrátu fotorezistem. Fotorezist je normálně dispergován v rozpouštědlech nebo vodných variantách a je materiálem s nadměrnou viskozitou. Podle požadavků procesu se jako způsob nanášení fotorezistu obecně volí ultrazvukové stříkání.

 

 

 

 

 

1. Nerovnoměrný nástřik

Důvod:

Tryska je ucpaná nebo opotřebovaná.

Ultrazvuková frekvence je nestabilní.

Viskozita stříkací tkaniny nyní není vhodná.

Rozpouštědlo:

Vyčistěte nebo vyměňte trysku.

Zkalibrujte ultrazvukový generátor.

Upravte viskozitu materiálu.

2. Částice spreje jsou příliš masivní nebo příliš malé

Důvod:

Nesprávné umístění ultrazvukových parametrů.

Graf trysek již není vhodný pro-okrajový materiál.

Rozpouštědlo:

Upravte frekvenci a výkon ultrazvuku.

Vyměňte skvělou trysku.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Populární Tagy: nanotechnologie polovodičový proces ultrazvukový fotorezist stříkací technologie, Čína nanotechnologie polovodičový proces ultrazvukový fotorezist stříkací technologie výrobci, dodavatelé, továrna