Ultrazvukový atomizační stříkací systém pro fotorezistní nátěr

 

 

 

Ultrazvukový atomizační stříkací systém pro fotorezistové potahování pro fotorezistové potahování je alternativní metodou k rotačnímu potahování. Roztok fotorezistu je atomizován na kapalinu o velikosti mikrometru pomocí vysokofrekvenčních ultrazvukových vibrací a poté jsou kapičky fotorezistu naneseny na povrch substrátu, aby vytvořily souvislý film fotorezistu. Proto může nástřik pokrýt celý povrch jakéhokoli tvaru substrátu a poskytnout konformní povlak bez ohledu na topologii.
Aby bylo možné stříkat fotorezist, musí mít fotorezist dostatečně nízkou viskozitu. Obvykle při viskozitě několika cSt může být nutné zředit fotorezist rozpouštědlem. Ředění fotorezistu může urychlit proces stárnutí fotorezistu a vytvářet částice v médiu. Dalším omezením stříkání je to, že je obtížné vytvořit tenké filmy menší než 1 µm kvůli náhodnému rozložení kapiček dopadajících na povrch. Pro vytvoření souvislého tenkého filmu je nutné dosáhnout minimální kritické hustoty kapiček fotorezistu, což zvyšuje minimální tloušťku filmu a dobu zpracování.

 

 

 

 

 

1. Výroba polovodičů: Během procesu výroby čipu může ultrazvukové stříkání fotorezistu zlepšit přesnost procesu fotolitografie.
2. Mikro nano zpracování: Přesný fotorezistní povlak je rozhodující při výrobě mikrostruktur a nanostruktur.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Populární Tagy: ultrazvukový atomizační stříkací systém pro fotorezistový nástřik, Čína ultrazvukový atomizační stříkací systém pro fotorezistový nástřik výrobci, dodavatelé, továrna